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国产28nm DUV光刻机量产交付，成熟制程芯片成本下降40%
近期国产28nm浸没式DUV光刻机量产进展成为行业焦点，上海微电子SSA800系列已交付中芯国际、华虹等头部晶圆厂开展量产验证，整机国产化率超85%，良率稳定在90%以上，通过多重曝光可支撑7nm制程芯片生产。该突破标志着我国成熟制程芯片制造实现自主可控，不少消费者也开始关注这一进展是否会带动手机、电脑等消费电子产品价格下降。01国产光刻机关键进展梳理05月上海微电子SSA800系列28nm浸没式
国产28nm光刻机量产交付，良率超90%！成熟制程芯片自主可控迈出关键一步
03月20日字节漫游指南报导中国半导体设备制造商宣布国产 28nm DUV 光刻机已通过量产验证 2025年12月25日上海微电子装备（集团）股份有限公司中标一个采购步进扫描式光刻机项目 2026年5月，中国半导体设备领域迎来关键进展：上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）自主研发的SSA800系列28nm浸没式深紫外（DUV）光刻机已进入集成电路制造产线的量产工艺验证阶段。据多方信源确认
国产EUV光刻机突破在即，但你的手机价格真会因此大跌吗？
01国产EUV光刻机攻关进展与技术定位EUV光刻机是生产7nm及以下先进制程芯片的核心设备，其技术突破直接关系到国产高端芯片的自主可控能力。当前我国在光刻领域采取“成熟制程筑基+高端技术攻坚+多元技术换道”的并行策略，相关进展可通过关键时间节点清晰呈现。78 10304月国产Hyperion-1及上海微电子EUV原理样机公开，可产生13.5nm EUV光、达5nm级分辨率，当前功率低、产能仅10片
俄罗斯光刻机突破仅够军工自用，离撼动全球供应链还差三代
01俄罗斯光刻机突破的真实水平：仅迈过工业级门槛，尚未形成全球替代能力俄罗斯宣布的光刻机突破，本质是350nm i线光刻设备正式纳入国家工业采购目录，仅实现了成熟制程设备“从0到1”的突破，距离撼动全球供应链格局尚有至少3个技术代差。该设备由泽列诺格勒纳米技术中心与白俄罗斯Planar联合研制，分辨率350nm、对准精度90nm，仅支持200mm晶圆，可满足军工、航空航天、工业控制等60%的国内关
国产28nm光刻机批量交付，成熟制程自主可控迈出关键一步
05月20日媒体消息显示上海微电子 28nm 浸没式 DUV 光刻机完成首批交付，交付对象为国内晶圆厂 05月15日媒体发布报告称上海微电子 SSA800/10W 浸没式 DUV 光刻机关键部件国产化率已超 85% 03月29日上海微电子装备（SMEE）在 SEMICON China 2026 展会上首次公开展示全自主光刻机设备 查看全部进展0128nm光刻机批量交付截至2026年5月，上海微电子
俄罗斯光刻机“突破”救不了手机降价，真正影响你换机成本的是存储芯片
俄罗斯最新公布的“光刻机突破”，连制造28纳米芯片都做不到。这台被官方列入国家工业信息系统名录的RAVC.442174.002TU设备，实际是一台350纳米i线光刻机，工作波长365纳米，对准精度约90纳米，仅适用于微控制器、功率器件等成熟制程芯片——这类芯片早已不是智能手机或高性能电脑的核心。换言之，这项“突破”对当前消费电子供应链几乎毫无影响，更谈不上推动国产手机或电脑降价。40 4401俄罗
国产光刻机量产冲击波：ASML在华市场份额两年跌33个百分点
01国产光刻机量产，ASML在华市场份额两年跌33个百分点ASML在中国DUV光刻机市场的占有率从2022年的85%暴跌至2025年的52%，2026年第一季度中国大陆营收占比更是从2025年第四季度的36%骤降至19%，环比下降17个百分点，韩国以45%的占比跃居ASML第一大市场。73 60这一下滑的核心背景是上海微电子SSA800系列28nm浸没式DUV光刻机于2026年4月官宣全面量产，良
国产光刻机要来了，这就是国产半导体的底气！
近日，据多家外媒爆料，上海微电子浸没式DUV光刻机正式启动小批量生产。这一次，不再是实验室里的样机，而是真正朝着产业化迈出了关键一步。这次的量产计划，也回应了外界多年的质疑。量产交付动真格：2026年计划交付5台，2027年直接冲到20台。别嫌少，这5台就是燎原的火种，实现了从实验室到产业化的历史性一跃。首批客户都是巨头：中芯国际、华虹半导体、长鑫存储等企业预计将陆续进入设备验证阶段，重点攻关28
